今年初,英伟达宣布台积电(TSMC)和新思科技(Synopsys)两大半导体行业巨头将使用计算光刻平台进行生产,加速制造并突破下一代先进半导体芯片的物理极限。英伟达创始人兼首席执行官黄仁勋表示,计算光刻是芯片制造的基石,利用cuLitho与新算法,相比于当前基于CPU的方法,极大地改进了半导体制造工艺。

英伟达确认,台积电正在使用cuLitho计算光刻平台进行生产,使其能够加速下一代芯片技术的开发。英伟达还开发了应用生成式人工智能的算法,以进一步提升cuLitho计算光刻平台的价值,与加速计算相结合,让工作流程提升了额外两倍的速度。

台积电董事长兼首席执行官魏哲家表示:“我们与英伟达合作,将GPU加速运算整合到台积电的工作流程中,从而实现了性能的巨大飞跃,大幅提高了吞吐量,缩短了周期时间,并降低了功耗要求。”

计算光刻主要通过软件对整个光刻过程进行建模和仿真,使用光掩模文件的数学预处理来调整光学光刻中的像差和效果,以优化光源形状和光罩形状,减小光刻成像与芯片设计差距,从而使光刻效果达到预期状态,从而提高良品率。据了解,利用cuLitho计算光刻库,可以将工作负载转换成GPU并行处理,使得500个NVIDIA DGX H100就能完成40000个CPU组成的系统所完成的工作。

英伟达称,通过GPU而不是CPU运算,可以将计算光刻的效率提高40倍,大大减轻晶圆厂的负担。

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