臺積電正在使用英偉達計算光刻平臺進行生產：提升性能，縮短周期，降低功耗

今年初，英伟达宣布台积电（TSMC）和新思科技（Synopsys）两大半导体行业巨头将使用计算光刻平台进行生产，加速制造并突破下一代先进半导体芯片的物理极限。英伟达创始人兼首席执行官黄仁勋表示，计算光刻是芯片制造的基石，利用cuLitho与新算法，相比于当前基于CPU的方法，极大地改进了半导体制造工艺。

英伟达确认，台积电正在使用cuLitho计算光刻平台进行生产，使其能够加速下一代芯片技术的开发。英伟达还开发了应用生成式人工智能的算法，以进一步提升cuLitho计算光刻平台的价值，与加速计算相结合，让工作流程提升了额外两倍的速度。

台积电董事长兼首席执行官魏哲家表示：“我们与英伟达合作，将GPU加速运算整合到台积电的工作流程中，从而实现了性能的巨大飞跃，大幅提高了吞吐量，缩短了周期时间，并降低了功耗要求。”

计算光刻主要通过软件对整个光刻过程进行建模和仿真，使用光掩模文件的数学预处理来调整光学光刻中的像差和效果，以优化光源形状和光罩形状，减小光刻成像与芯片设计差距，从而使光刻效果达到预期状态，从而提高良品率。据了解，利用cuLitho计算光刻库，可以将工作负载转换成GPU并行处理，使得500个NVIDIA DGX H100就能完成40000个CPU组成的系统所完成的工作。

英伟达称，通过GPU而不是CPU运算，可以将计算光刻的效率提高40倍，大大减轻晶圆厂的负担。