新思
三星被曝最快2024年底前開始安裝首臺ASML High-NA EUV光刻機
三星計劃圍繞高High-NA EUV技術開發一個強大的生態系統。
臺積電正在使用英偉達計算光刻平臺進行生產:提升性能,縮短周期,降低功耗
臺積電正在使用英偉達計算光刻平臺進行生產:提升性能,縮短周期,降低功耗