光刻
英特爾High NA EUV光刻機2024年晚些時候投入研發工作,有望在三代節點沿用
菲利普斯預測光刻技術的名義尺度會突破到1nm以下量級。
蘋果2025年MacBook將采用3D芯片,玻璃基板引領芯片革命?
雖然行業領導者正在致力於未來3D芯片制造的玻璃基板,但仍有許多障礙需要克服。
三星被曝最快2024年底前開始安裝首臺ASML High-NA EUV光刻機
三星計劃圍繞高High-NA EUV技術開發一個強大的生態系統。
臺積電正在使用英偉達計算光刻平臺進行生產:提升性能,縮短周期,降低功耗
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