光刻
英特爾High NA EUV光刻機2024年晚些時候投入研發工作,有望在三代節點沿用
菲利普斯預測光刻技術的名義尺度會突破到1nm以下量級。
7nm高端DUV光刻機出口被撤銷!ASML:中國客戶積壓訂單都已交付
至於先進的7nm、14nm等先進的EUV光刻機,ASML依然不能給中國客戶出售。