電路設計
三星被曝最快2024年底前開始安裝首臺ASML High-NA EUV光刻機
三星計劃圍繞高High-NA EUV技術開發一個強大的生態系統。
無挖孔真全面屏！京東方發佈新一代柔性OLED FDC 2.0屏下攝像頭技術
在SIP超窄邊技術及超級COP封裝工藝加持下，顯示屏占比達到95.3%。
