節點
英特爾High NA EUV光刻機2024年晚些時候投入研發工作,有望在三代節點沿用
菲利普斯預測光刻技術的名義尺度會突破到1nm以下量級。
iPhone 18芯片或采用臺積電最新1.8nm工藝 提升巨大
根據2024年1月的一份報告,蘋果將是首批采用臺積電2nm工藝的公司之一。