方向
英特爾High NA EUV光刻機2024年晚些時候投入研發工作,有望在三代節點沿用
菲利普斯預測光刻技術的名義尺度會突破到1nm以下量級。
美國“無償軍援”要臺灣打城鎮戰意圖明顯,臺民代:會造成巨大傷亡,民意不能接受
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