鎧俠開始啟用兩個新的研發中心 將加快和深化研發工作

鎧俠（Kioxia）宣佈，這個月已開始啟用兩個新的研發設施，分別是位於橫濱技術園區旗艦大樓，以及Shin-Koyasu前沿技術中心。鎧俠表示，未來日本神奈川縣的其他研發職能部門將搬遷到新的研發中心，以提高研究效率，進一步促進技術的創新和發展。

隨著新建旗艦大樓的加入，鎧俠在橫濱技術園區的規模擴大瞭近一倍，這能讓其更好地對NAND閃存和SSD產品進行評估，從而提高整體的產品開發和產品質量。旗艦大樓配備瞭環保設施，而且還獲得瞭ZEB-Ready（準凈零能耗）認證，意味著通過提高能源效率，將能源消耗減少50%或以上。

Shin-Koyasu前沿技術中心主要展開半導體領域廣泛的尖端基礎研究，涉及新材料、新工藝和新器件，擁有最先進的潔凈室和環保設計。鎧俠首席技術官Masaki Momodomi表示，建造兩個新的研發設施以後，鎧俠將加快和深化研發工作，以提供支持未來數字社會的產品、服務和技術。

鎧俠還與大學、科研機構和其他公司合作，除瞭下一代存儲技術外，還在推進多個領域的研發，包括面向以數據為中心的計算系統技術和人工智能等數字化轉型。