據TrendForce報道,美光計劃在日本廣島縣建造一座新的DRAM工廠,預計投資金額在6000億至8000億日元之間(約合人民幣277.06億至369.41億元)。美光計劃2026年初開工建設,目標2027年末投入運營,其中將會安裝極紫外(EUV)光刻設備,將以1-gamma(1γ)工藝生產DRAM芯片。

美光計劃在日本建造新的DRAM工廠 預計2027年末投入運營

據瞭解,日本政府已經批準高達1920億日元(約合人民幣88.66億元)的補貼,以支持美光的廣島工廠生產下一代芯片。日本經濟產業省去年表示,這筆補助資金將幫助美光整合ASML提供的EUV光刻設備,生產的芯片將為人工智能(AI)、高性能計算(HPC)和自動駕駛技術提供動力,對於未來科技的發展至關重要。

美光在當地本身就有生產設施,其實在更早之前已經計劃擴充並升級生產線。美光最初計劃2024年初之前開始運營新工廠,但是出於各種不利市場條件,最後調整瞭時間表。此外,美光還在2013年收購瞭日本的DRAM廠商爾必達(Elpida),得到瞭4000多名工程師和技術人員,增強瞭自身的技術實力。

近年來,日本在半導體領域呈現瞭復蘇的趨勢,日本經濟產業省與各個私營部門展開多方面合作,促進瞭相關產業的佈局和發展,同時有利的匯率政策也有助於工廠建設和投資。不過日本半導體人才面臨短缺,或許要通過人才發展補貼計劃來滿足未來的發展需要。

點讚(0) 打賞

评论列表 共有 0 條評論

暫無評論

微信小程序

微信扫一扫體驗

立即
投稿

微信公眾賬號

微信扫一扫加關注

發表
評論
返回
頂部