臺積電今明兩年將接收超60臺EUV光刻機 投入超過123億美元 按照臺積電（TSMC）的安排，將在2nm制程節點將首度使用Gate-all-aroundFETs（GAAFET）晶體管，同時制造過程仍依賴於極紫外（EUV）光刻技術，計劃2025年進入大批量生產 遊戲動漫 2024年06月30日 0 點讚 0 評論 45 瀏覽
