英特爾CEO親自站臺：Intel 18A優勢略高於臺積電N2工藝

IT之傢 12 月 21 日消息，英特爾首席執行官帕特・基辛格（Pat Gelsinger）近日在接受采訪時表示，英特爾的 18A 工藝和臺積電的 N2 工藝不相上下。

不過基辛格表示，在背面供電（backside power delivery）方面，英特爾更勝一籌，也得到瞭客戶的廣泛認可。

基辛格表示英特爾在背面供電技術方面，提供瞭更好的面積效率，這意味著更低的成本更好的動力輸出，也意味著更高的性能。

基辛格表示 Intel 18A 憑借著良好的晶體管和強大的功率傳輸，略微領先於 N2。此外臺積電的封裝成本更高，而英特爾可以提供更有競爭力的價格優勢。

目前臺積電、英特爾和三星都在加速推進代工業務，在最近的 IEEE 國際電子設備會議（IEDM）上，三傢公司都展示瞭 CFET（Complementary FET）晶體管解決方案。

IT之傢註：堆疊 CFET 晶體管架構涉及將兩種類型的晶體管（nFET 和 pFET）堆疊在一起，目標是取代全環繞柵極（GAA），成為密度翻倍的下一代晶體管設計。

據 IEEE Spectrum 報道，英特爾是第一傢展示 CFET 解決方案的代工廠，早在 2020 年就公開推出瞭早期版本。在會議期間，英特爾介紹瞭使用 CFET 制造的最簡單的電路之一，重點介紹瞭逆變器的改進。

CMOS 反相器將相同的輸入電壓發送到堆疊在一起的雙晶體管的柵極，產生與輸入邏輯相反的輸出，並且逆變器在單個鰭片上完成。

英特爾還通過將每個器件的納米片數量從兩個增加到三個，將兩個器件之間的間隔從 50 nm 減少到 30 nm，從而改進瞭 CFET 堆棧的電氣特性。

專傢們預計，從現在開始，CFET 技術的大規模商業化可能還需要 7 到 10 年的時間。