作為半導體制造中的核心裝備之一,光刻機至關重要,7nm以下工藝所需的EUV光刻機隻有ASML公司能生產,售價達到10億以上,不過今年EUV的勢頭熄火瞭,DUV光刻機需求反而暴漲。

ASML公司日前發佈瞭Q2季度財報,單季度營收達到69.02億歐元,同比增長27.10%,環比增長2.31%,接近此前的指引上限並創歷史新高。

實現凈利潤19.42億歐元,同比增長37.62%,環比減少0.72%。

公司單季度的毛利率為51.3%,高於指引,同比提升2.2pct,環比提升0.7pct,主要是浸沒式DUV設備快速出貨帶來的;凈利率為28.1%,同比提升2.1pct,環比降低0.9pct。

在ASML出售的設備中,EUV光刻機的營收占比這次大幅降低瞭,隻占37%,當季總出貨量為113臺,EUV從上季度的17臺減少到瞭12臺,ASML對EUV業務的增長預期也從40%減少到25%。

EUV減少主要跟當前的半導體市場環境有關,各大晶圓廠的先進工藝投資都在放緩。

另一方面,傳統的DUV光刻機需求反而大漲,全年出貨量可能比之前預計的375臺還要多,營收增長50%以上。

其中一個重要原因就是中國客戶的需求爆發,除瞭國內半導體產能建設的需要之外,還有一個因素就是下半年荷蘭就會限制部分光刻機出口,國內客戶提前下單鎖定。

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