英偉達領頭增加投片量 臺積電先進制程產能利用率大幅提升

集微網消息，據臺媒經濟日報報道，業界傳出，在英偉達領頭增加AI芯片投片量帶動下，臺積電先進制程產能利用率近期大幅提升，5納米稼動率從五成多提高到七至八成左右；7納米產能利用率也從原本僅三、四成，逐步拉升至五成左右。

業界人士指出，臺積電5納米制程月產能約13萬片，之前產能利用率估計一度降到五成多，近期開始加溫，目前月投片量估算約9萬多至10萬多片，換算產能利用率拉升至七至八成左右。

7納米制程方面，供應鏈認為，臺積電7納米之前幾個月產能利用率最低可能降至僅三到四成，但目前已經回到約五成左右水平。

近日業內消息人士透露，英偉達大量訂單的湧入，使得臺積電5納米制程平臺的產能利用率幾乎達到滿載。英偉達正在向臺積電緊急訂購其H100和A100，以及專門為中國大陸市場設計的H800和A800。“英偉達的訂單已經提振瞭臺積電7/6納米工藝的產能利用率，晶圓廠5/4納米工藝的利用率也在快速上升，幾乎達到瞭滿負荷生產狀態。”消息人士補充說道。

據悉，英偉達A100采用臺積電7納米制程節點，而去年5月開始出貨的H100則基於臺積電4N制程節點（為英偉達設計的5納米制程節點的優化版本）。

（校對/王雲朗）