英特爾High NA EUV光刻機2024年晚些時候投入研發工作,有望在三代節點沿用 菲利普斯預測光刻技術的名義尺度會突破到1nm以下量級。 數碼生活 2024年04月22日 0 點讚 0 評論 72 瀏覽